• 07-252020
  • 你不知道的 4 大考虑ASML光刻机即爱趣彩使无尘室 <<返回

      环球半导体微影本领厂商艾司摩尔(ASML),由于其所坐蓐的微影开发一经正在半导体前辈制程中成为不成或缺的紧急闭节。加倍此中的极紫外光刻开发(EUV)更为晶圆代工龙头台积电与竞赛敌手三星正在功课上的重心。并且,还由于美邦伸张对中邦华为的禁售令限度,正在现在中邦无法获得 EUV 开发的境况下,使得华为将来面对可以没有尖端芯片可运用的境况。由此可知,ASML 所坐蓐的微影开发对现在半导体财富的紧急性。

      只是,云云紧急的半导体开发,虽正在运作时仍会是正在号称污染性极低的晶圆厂无尘室中,然则微影开发还是要有一层外壳的庇护,这可能让人百思不得其解这外壳的用处。对此,ASML 就透露,固然微影开发安放正在号称污染性极低的晶圆厂无尘室内运作,然则商量到 4个身分,也便是「提防极详细污染源进入」、「维护温度安定」、「庇护就业职员安乐」、以及「窒碍雷射散射光」等身分,微影开发还是必须要有一层外壳来庇护。

      ASML 进一步解说,正在提防极详细污染源进入,ASML 的微影开发一经正在无尘室运作,不外平常半导体厂的无尘室等第分为 10 级和 100 级两种,像蚀刻、微影这些紧急制程都是正在无尘等第 10 的境况中举行。10 级的道理为每立方英尺存正在 10 个以下巨细为 0.5 微米的微粒子。因而,即使无尘室一经额外明净,但 0.5 微米等于 500 奈米,这些尘埃微粒对目前 10 奈米线宽等第的芯片来说无比远大!以是,ASML 采用微影开发的外壳来阻绝外界的尘埃,爱趣彩再使用高效气氛过滤器(HEPA filter)发生无尘的气氛送往微影开发内部发生正压空间。云云一来,外界的尘埃粒子就十足进不到微影开发内部。

      其次,正在维护温度安定的片面,ASML 指出,由于微影开发内部的控温正在最闭节的组件片面务必精准坚持正在 22 ± 0.005°C。而要到达这个准绳,除了由于具有用能优秀的控温编制,也由于微影开发有了外壳,可以阻绝外界温度变动对开发内部形成的影响。

      至于,正在庇护就业职员安乐的片面,ASML 除了正在新一代的 NXT 开发中采用了磁悬浮平台,以填补微影开发的运作速率和安定性。正在曝光平台下是一块具有高强磁场的很久磁铁,磁力到达 16,000 高斯,是地球磁场的 20,000 倍以上。当 ASML 工程师对曝光平台举行庇护时,务必做好防护治理才略着手功课,未治理前的磁力可以将器械吸附上去,形成开发零件毁伤或工程师受伤。以是,正在微影开发运转时代,外壳阻隔了磁力,也发生紧急的庇护效力。

      终末,窒碍雷射散射光的片面,目前 ASML 微影机台的外壳没有任何透后窗可能看到内部的运转情状,重要原由是正在于微影开发采用的光源是雷射光。而运作方法是从雷射光源模块导入微影开发,再通过光罩,由透镜组聚焦成像至晶圆上。此中,雷射光依强度分为 5 级,等第 Class 3B 以上的雷射光一经对人体无益。而 ASML 微影开发的曝光雷射功率可达 90W,属于 Class 4 的高强雷射,纵然是投正在晶圆、光学组件皮相等反射发生的散射光(Stray Light),都邑对人眼都邑形成毁伤,以是必须要透过一层外壳来阻遏散射光对就业职员的危险。